- Описание
- Характеристики
- Отзывы0
- Наличие в магазинах
разработанный компанией Zhuhai Dynamic Technology с использованием сочетания
ранее разработанных технологий светочувствительных материалов и процесса
нанесения покрытий для использования в производстве печатных плат.
AQUA MER® ME720 представляет собой негативный фотопроявляемый фоторезист
разработанный для процесса формирования тонких проводников при
гальваническом осаждении меди, олова, олово/свинца, тентинг-процессе и
травлении. ME720 предназначен для проявления в слабощелочном растворе, таком
как карбонат натрия (Na2CO3), и для удаления в щелочном растворе, таком как
гидроксид натрия (NaOH) или растворе органического амина.
AQUA MER® ME720 представляет собой высокоэффективный фоторезист для
гальванического осаждения меди, олова, олово/свинца. Он доступен в виде резиста
толщиной 2,0 мил/50 мкм, помещенного между слоями лавсановой и
полиэтиленовой пленки.
Тип товара: | Средства для изготовления печатных плат |
Гарантия: | Отсутствует |
Производитель: | AQUA MER |
Предложение по продаже товара действительно в течение срока наличия этого товара на складе.
Цена в розничных магазинах может отличаться от указанной на сайте.