Фоторезист плёночный Ordyl Alpha 350 - 300х3000мм

Сухие пленочные фоторезисты Ordyl ALPHA 350 разработаны для проявления и удаления в умеренно щелочных растворах.
Они обеспечивают превосходную работу и устойчивость к выщелачиванию во всех обычно используемых в производстве печатных плат ваннах гальванической металлизации
- обладает высокой устойчивостью к процессам кислого и щелочного травления.
- очень высокой устойчивостью в гальванических ваннах никелирования и золочения.
- чрезвычайно эластичный, обеспечивающий надежное тентирование отверстий даже большого диаметра;
- хорошее тентирование достигается с резистом толщиной 50 мкм.
- имеет превосходную адгезию и обеспечивает высокий выход годных в технологии изготовления тонких проводников.
Тип: ALPHA 350
Толщина: 50 мкм
Использование: Тентинг, гальванические покрытия медь-олово, олово/свинец, никель/золото, кислое и щелочное травление.
Хранить в условиях отсутствия возможности УФ-облучения при температуре 15 – 20 °C и относительной влажности 40 - 7